我司自主研發的高精密控溫技術,控制輸出精度達 0.1%,能精細掌控溫度變化。溫度波動控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔,滿足嚴苛溫度需求。該系統潔凈度表現優異,可達百級、十級、一級。關鍵區域靜態溫度穩定性 ±5mK,內部溫度均勻性小于 16mK/m,為芯片研發等敏感項目營造理想溫場,保障實驗數據不受溫度干擾。濕度方面,8 小時內穩定性可達 ±0.5%;壓力穩定性為 +/-3Pa,設備還能連續穩定工作 144 小時,助力長時間實驗與制造。在潔凈度上,工作區潔凈度優于 ISO class3,既確保實驗結果準確可靠,又保障精密儀器正常工作與使用壽命,推動科研與生產進步。高精密溫濕度控制設備內部濕度穩定性可達±0.5%@8h。三坐標測量儀恒溫恒濕設備價格
在航天器電子元器件的制造和裝配過程中,精密環控柜的作用同樣關鍵。電子元器件對靜電、潔凈度以及溫濕度都十分敏感。靜電可能會擊穿電子元件,導致其損壞;而不合適的溫濕度條件會影響電子元件的性能和可靠性。精密環控柜通過配備高效的靜電消除裝置以及精確的溫濕度控制系統,為電子元器件的生產提供了一個穩定、潔凈且無靜電干擾的環境。這不僅保證了電子元器件在制造過程中的質量,也提高了其在航天器復雜空間環境下的穩定性和可靠性,為我國航空航天事業的蓬勃發展奠定了堅實基礎。三坐標測量儀恒溫恒濕設備價格提供培訓服務,讓用戶熟練掌握設備操作與維護要點。
精密環控柜主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成,為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。該設備內部通過風機引導氣流以一定的方向循環,控制系統對循環氣流的每個環節進行處理,從而使柜內的溫濕度達到超高的控制精度。該系統可實現潔凈度百級、十級、一級,溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密環境控制。自面世以來,已為相關領域客戶提供了穩定的實驗室環境以及監測服務,獲得了眾多好評。
精密環控柜采用可拆卸鋁合金框架,這一設計極具創新性和實用性。對于大型設備,可在現場進行組裝,減少了運輸過程中的體積和重量,降低了運輸難度和成本。同時,鋁合金材質具有強度高、質量輕、耐腐蝕等優點,保證了設備的結構穩定性和使用壽命。箱體采用高質量鈑金材質,不僅堅固耐用,而且美觀大方。更重要的是,可根據客戶需求定制外觀顏色,滿足不同用戶的個性化審美需求。在一些對環境美觀度有要求的實驗室或生產車間,定制化的外觀設計能使設備更好地融入整體環境。這種既注重功能又兼顧外觀的設計,充分體現了產品的人性化和靈活性。精密環控設備為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。
在芯片這一高科技產品的復雜生產流程里,眾多環節對溫濕度的波動展現出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過程中,利用高精度的光刻設備,將預先設計好的復雜電路圖案轉移至硅片表面。溫度的穩定性起著決定性作用,哪怕有零點幾攝氏度的微小波動,都會使光刻膠內部的化學反應速率產生偏差。光刻膠作為一種對光敏感的高分子材料,其反應速率的改變將直接作用于光刻成像效果,致使圖案邊緣模糊、線條粗細不均,進而讓芯片上的線路出現偏差,甚至引發短路故障,讓前期投入的大量人力、物力和時間付諸東流。與此同時,濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高,水汽極易滲透至光刻膠內部,使其含水量上升,感光度隨之降低,如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄,嚴重影響光刻精度,導致芯片良品率大打折扣,大幅增加生產成本。根據高精密行業用戶的反饋,對產品進行持續優化,不斷提升設備的適用性和穩定性。湖南電子顯微鏡恒溫恒濕
針對高精密儀器使用區域,提供穩定環境,延長儀器設備的使用壽命。三坐標測量儀恒溫恒濕設備價格
激光干涉儀用于測量微小位移,精度可達納米級別。溫度波動哪怕只有 1℃,由于儀器主體與測量目標所處環境溫度不一致,二者熱脹冷縮程度不同,會造成測量基線的微妙變化,導致測量位移結果出現偏差,在高精度機械加工零件的尺寸檢測中,這種偏差可能使零件被誤判為不合格品,增加生產成本。高濕度環境下,水汽會干擾激光的傳播路徑,使激光發生散射,降低干涉條紋的對比度,影響測量人員對條紋移動的精確判斷,進而無法準確獲取位移數據,給精密制造、航空航天等領域的科研與生產帶來極大困擾。三坐標測量儀恒溫恒濕設備價格